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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明提供基片处理装置、基片处理方法和存储介质。基片处理装置是使用处理液处理基片的基片处理装置，其包括：保持基片并使其旋转的保持旋转部；处理液供给机构，其至少具有收纳处理液的处理液容器和用于将上述处理液容器的处理液供给到基片的液供给通路；释放部，其对因上述保持旋转部而旋转的基片释放从上述液供给通路供给的处理液；获取上述处理液供给机构中的压力信息的压力信息获取部；和基于由上述压力信息获取部获取的压力信息，控制上述保持旋转部的转速的控制部。本发明能够进行各个基片的膜厚的改变少的良好的涂敷处理。
主权项：1.一种基片处理装置，其使用处理液处理基片，所述基片处理装置的特征在于，包括：保持基片并使其旋转的保持旋转部；处理液供给机构，其至少具有收纳处理液的处理液容器和用于将所述处理液容器的处理液供给到基片的液供给通路；释放部，其对因所述保持旋转部而旋转的基片释放从所述液供给通路供给的处理液；获取所述处理液供给机构中的压力信息的压力信息获取部；和基于由所述压力信息获取部获取的压力信息，控制所述保持旋转部的转速的控制部，所述压力信息获取部为设置在所述处理液供给机构的所述处理液容器或所述液供给通路的压力传感器，设置有所述压力传感器的位置的处理液需要进行多次释放动作直至被从所述释放部释放，所述控制部存储有基于由所述压力信息获取部获取的压力信息的转速，在与所述压力传感器获取的压力信息对应的处理液被从所述释放部释放时，所述控制部以所存储的所述转速进行所述保持旋转部的控制，所述处理液供给机构还包括：将在所述供给通路中流动的处理液加压输送的加压输送部；和测量在所述供给通路中流动的处理液的流量的流量测量部，所述压力信息获取部获取所述处理液容器的内压值、所述加压输送部的内压值、和所述流量测量部的前后的压力值的差信息，所述控制部以基于所述处理液容器的内压值的转速、基于所述加压输送部的内压值的转速、和基于所述流量测量部的前后的压力值的差信息的转速的平均值的转速，控制所述保持旋转部的转速。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 基片处理装置、基片处理方法和存储介质
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