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具有改进的导电性的包括耗尽层的N极性器件 

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申请/专利权人:创世舫科技有限公司

摘要:本文描述了具有III‑N耗尽层的横向III‑N(例如,GaN)器件。一种电路包括耗尽模式晶体管,其中源极连接到增强模式晶体管的漏极。耗尽模式晶体管的栅极和增强模式晶体管的栅极被偏置在零伏,并且耗尽模式晶体管的漏极被偏置在正电压以阻挡正向方向上的电流。然后,将增强模式晶体管的栅极的偏置改变到大于增强模式晶体管的阈值电压的第一电压,并且允许第一电流在正向方向上流过沟道。然后,耗尽模式晶体管的栅极的偏置被改变到第二电压,并且允许第二电流在正向方向上流过沟道,其中第二电流大于第一电流。

主权项:1.一种操作电路的方法,所述电路包括增强模式晶体管和具有沟道的耗尽模式晶体管,其中,所述耗尽模式晶体管的源极连接到所述增强模式晶体管的漏极,所述方法包括:将所述耗尽模式晶体管的栅极和所述增强模式晶体管的栅极偏置在零伏,并且将正电压偏置到所述耗尽模式晶体管的漏极,并且在正向方向上阻断电流;将所述增强模式晶体管的所述栅极的所述偏置改变到大于所述增强模式晶体管的阈值电压的第一电压,同时所述耗尽模式晶体管的所述栅极保持偏置在零伏,使得允许第一电流在正向方向上流过所述沟道;以及将所述耗尽模式晶体管的所述栅极的所述偏置改变到第二电压,同时所述增强模式晶体管的所述栅极保持偏置在所述第一电压,使得允许第二电流在正向方向上流过所述沟道;其中,所述第二电流大于所述第一电流。

全文数据:

权利要求:

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