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一种半导体衬底清洗装置 

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申请/专利权人:涩米(厦门)科技有限公司

摘要:本实用新型涉及一种半导体衬底清洗装置,包括清洗箱,所述清洗箱说我上端面通过铰接轴铰接有盖板,所述盖板的上端面固定有第一把手,所述清洗箱的后端面设置有清洗机构,所述清洗箱的下端面固定有数量为两个的滑轨,所述出水管的外侧通过铰接座铰接有连接杆,所述连接杆的左右两端面均固定有输送杆,两个所述输送杆的外侧均安装有若干个喷头。该半导体衬底清洗装置通过水泵的运作,抽取水箱内部的水流进入两个输送杆的内部,从而通过两侧的若干个喷头将水流喷洒出来对半导体衬底进行从上到下的清洗,通过设置清洗箱为超声波的,从而对内部的半导体衬底进行由内到外的清洗,从而使半导体衬底能够全面清洗,提高清洗的质量。

主权项:1.一种半导体衬底清洗装置,包括清洗箱1,其特征在于:所述清洗箱1说我上端面通过铰接轴铰接有盖板2,所述盖板2的上端面固定有第一把手3,所述清洗箱1的后端面设置有清洗机构4,所述清洗箱1的下端面固定有数量为两个的滑轨5,两个所述滑轨5的内部滑动连接有同一个滑板6,所述滑板6的前端面固定有第二把手7;其中,所述清洗机构4包括固定在清洗箱1后端面的水箱401,所述水箱401的上端面固定有水泵402,所述水泵402的输入端连通有入水管403,所述水泵402的输出端连通有出水管404,所述出水管404的外侧通过铰接座铰接有连接杆405,所述连接杆405的左右两端面均固定有输送杆406,两个所述输送杆406的外侧均安装有若干个喷头407。

全文数据:

权利要求:

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