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申请/专利权人：珠海基石科技有限公司
摘要：本申请实施例提供一种图案化组合物、图案化薄膜、图案化基底、半导体器件及其制造方法。该图案化组合物包括基础树脂、光致产酸剂和有机溶剂，所述基础树脂包括酸不稳定重复单元、衍生自特定结构第一单体的第一重复单元和衍生自特定结构第二单体的第二重复单元，且基础树脂中第一重复单元、第二重复单元的摩尔占比分别为20%‑33%、20%‑30%。借助第一重复单元提供的良好亲水性和第二单元重复单元提供的耐刻蚀性，可以使采用该图案化组合物可以制得耐刻蚀性好、图案缺陷率极低的图案化薄膜，以用于半导体器件的制造。
主权项：1.一种图案化组合物，其特征在于，所述图案化组合物包括基础树脂、光致产酸剂和有机溶剂，其中，所述基础树脂包括酸不稳定重复单元、衍生自式（A）所示单体的第一重复单元和衍生自第二单体的第二重复单元；所述第二单体包括如式（B1）至式（B5）所示物质中的一种或多种； 式（A）式（B1） 式（B2）式（B3） 式（B4）式（B5）且，所述基础树脂中，所述第一重复单元的摩尔占比为20%-33%，所述第二重复单元的摩尔占比为20%-30%。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 珠海基石科技有限公司 图案化组合物、图案化薄膜、图案化基底、半导体器件及其制造方法
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