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申请/专利权人：田中电子工业株式会社
摘要：本发明提供一种钯覆盖铜接合线，其在第一接合时不产生缩孔，接合可靠性高，即使是在高温、高湿的环境中也能够长时间维持优异的接合可靠性。一种钯覆盖铜接合线，其中，相对于铜与钯与硫族元素的合计，钯的浓度为1.0质量％～4.0质量％，硫族元素浓度合计为50质量ppm以下，硫浓度为5质量ppm～12质量ppm、或硒浓度为5质量ppm～20质量ppm或碲浓度为15质量ppm～50质量ppm，在形成于引线前端的无空气球的距离前端部表面为5.0nm～100.0nm的范围内，具有钯的浓度相对于铜与钯的合计成为平均6.5原子％～30.0原子％的钯富集区域。
主权项：1.一种钯覆盖铜接合线，其特征在于，其是具有以铜作为主要成分的芯材和所述芯材上的钯层、且含有硫族元素的钯覆盖铜接合线，该硫族元素为硫、硒或碲，其中，相对于所述钯覆盖铜接合线的铜与钯与硫族元素的合计，钯的浓度为1.0质量％～4.0质量％，硫族元素浓度合计为50质量ppm以下，硫S浓度为5质量ppm～12质量ppm、或硒Se浓度为5质量ppm～20质量ppm或碲Te浓度为15质量ppm～50质量ppm，在形成于引线前端的无空气球的距离前端部表面为5.0nm～100.0nm的范围内，具有钯的浓度相对于铜与钯的合计成为平均6.5原子％～30.0原子％的钯富集区域。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 田中电子工业株式会社 钯覆盖铜接合线及其制造方法
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