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申请/专利权人：鑫天虹(厦门)科技有限公司
摘要：本发明提供一种具有遮蔽机构的薄膜沉积腔体，主要包括一反应腔体、一承载盘及一遮蔽机构，其中部分的遮蔽机构及承载盘位于反应腔体内。遮蔽机构包括一第一承载臂、一第二承载臂、一第一遮蔽板、一第二遮蔽板及一驱动装置，其中驱动装置连接第一及第二承载臂，并经由第一及第二承载臂承载第一及第二遮蔽板，以驱动第一及第二遮蔽板朝相反方向摆动。在进行清洁制程时，驱动装置会带动第一及第二遮蔽板相互靠近，并将操作在遮蔽状态的第一及第二遮蔽板放置在承载盘上，以遮挡清洁薄膜沉积腔体的过程中产生的污染。
主权项：1.一种具有遮蔽机构的薄膜沉积腔体，其特征在于，包括：一反应腔体，包括一容置空间：一挡件，位于该容置空间内，该挡件的一端连接该反应腔体；一承载盘，位于该容置空间内，并包括一承载面用以承载至少一基板，该承载盘及该挡件在该容置空间内区隔出一反应空间；及一遮蔽机构，包括：一第一承载臂，位于该容置空间内，包括复数个第一沟槽；一第二承载臂，位于该容置空间内，包括复数的第二沟槽；一第一遮蔽板，该第一遮蔽板的一表面包括复数个第一支撑脚，其中该第一遮蔽板放置在该第一承载臂上，而该复数个第一支撑脚则分别位于该复数个第一沟槽内；一第二遮蔽板，该第二遮蔽板的一表面包括复数个第二支撑脚，其中该第二遮蔽板放置在该第二承载臂上，而该复数个第二支撑脚则分别位于该复数个第二沟槽内，该第一遮蔽板包括一第一内侧面，该第二遮蔽板包括一第二内侧面，该第一内侧面与该第二内侧面相面对，该第一沟槽连通该第一遮蔽板的该第一内侧面，而该第二沟槽连通该第二遮蔽板的该第二内侧面，该第一遮蔽板及该第二遮蔽板不会直接接触；及一驱动装置，连接该第一承载臂及该第二承载臂，并分别通过该第一承载臂及该第二承载臂驱动该第一遮蔽板及该第二遮蔽板朝相反的方向摆动，使得该第一遮蔽板及该第二遮蔽板在一开启状态及一遮蔽状态之间切换，其中该遮蔽状态该第一遮蔽板及该第二遮蔽板分别通过该第一支撑脚及该第二支撑脚放置在该承载盘的该承载面上，并以该第一遮蔽板及该第二遮蔽板遮蔽该承载盘。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 鑫天虹(厦门)科技有限公司 遮蔽机构及具有遮蔽机构的薄膜沉积腔体
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