龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：应用材料公司
摘要：提供一种具有支撑层的DRAM装置，用于在被电极金属填充之前保持bWL特征。支撑层使结构从顶表面得到支撑，但不阻止间隙填充。首先将暂时间隙填充材料沉积在bWL间隙中，随后使暂时间隙填充材料凹陷以暴露顶部边缘。随后通过等离子体增强化学气相沉积PECVD将支撑层材料沉积在结构上。随后将装置图案化为正交且间距大于bWL间距。随后移除暂时间隙填充材料，从而形成包括支撑材料的支撑梁。随后可沉积金属以填充在支撑梁之下的bWL间隙。
主权项：1.一种存储器装置，包括：基板，所述基板具有基板表面，所述基板表面具有延伸至所述基板中某个深度的多个沟槽，每个沟槽包含底部及侧壁；及梁，所述梁在所述基板表面上在所述多个沟槽之间延伸，所述梁包括支撑层。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 用于小间距填充的支撑层
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号