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申请/专利权人：电子科技大学
摘要：本发明提供一种适用于规则曲面电路的接触式曝光装置、曲面电路的制备方法，属于曝光装置技术领域。通过将规则曲面上设计图案展开成多个连续的梭形图案块，实现原本曲面图案转化成平面图案；依据转化后的平面图案设计对应的掩模版，其中保留的图案区域为透光区域，其余区域为不透光区域。之后利用本发明曝光装置，对规则曲面表面的感光油墨进行曝光，即可实现将掩模版上图案转移到规则曲面的表面。此曝光过程，样品台的旋转与掩模版的水平移动再结合光源实现掩模版上图案的转移，从而实现规则曲面电路的制备。
主权项：1.一种适用于规则曲面电路的接触式曝光装置，其特征在于，包括旋转样品台1、光遮挡机构2和水平移动台3；其中，旋转样品台1用于实现样品旋转，光遮挡机构2用于实现控制曝光区域，水平移动台3用于实现掩模版的水平移动；曝光时，通过掩膜版的水平移动和样品的转动共同实现样品表面的曝光；所述样品为规则曲面样品。
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百度查询： 电子科技大学 一种适用于规则曲面电路的接触式曝光装置、曲面电路的制备方法
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