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一种基于软火花放电的微弧氧化涂层及制备方法 

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申请/专利权人:中南大学

摘要:本发明涉及多主元合金表面处理技术领域,具体涉及一种利用基于软火花放电的微弧氧化技术的涂层制备方法。所述涂层为在基体表面经微弧氧化生成的涂层;所述基体为含有Ti、Nb、Zr的多主元合金;涂层表面呈现多孔结构,分布微纳米级孔洞和或沟槽状孔洞同时还分布有球状颗粒。其所用电解液中,主盐的浓度为20~105gL;微弧氧化时,控制:正向电流密度为50~500mAcm2,负向电流密度为80~2000mAcm2、且负向电流密度大于正向电流密度,占空比5%~30%,脉冲频率100~1000Hz,时间5~60min,温度20~40℃。本发明制备工艺简单可控,所得产品性能优良,便于工业化应用。

主权项:1.一种基于软火花放电的微弧氧化涂层,其特征在于:包括基体和在基体表面经微弧氧化生成的涂层;所述基体为含有Ti、Nb、Zr的合金;所在基体表面经微弧氧化生成的涂层其表面呈现多孔结构,分布微纳米级孔洞和或沟槽状孔洞;所述的涂层表面还分布有球状颗粒;所述微纳米级孔洞中,微米级孔洞的孔径为1~10微米;所述球状颗粒的粒径为0.5~2微米;所述沟槽状孔洞的长度为10~50微米,所述基体表面经微弧氧化生成的涂层的孔隙率为3%~30%。

全文数据:

权利要求:

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