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申请/专利权人：东曹株式会社
摘要：一种气体阻隔膜用材料，其包含下述通式1所示的有机硅烷化合物。SiR14‑a‑bR2aR3b…1[式中，R1表示苯基、苄基、或碳原子数1～10的烷基，R2表示碳原子数2～10的烯基或碳原子数2～10的炔基，R3表示碳原子数1～10的烷氧基或羟基，a为1～4的整数，b为0～3的整数。其中，在存在多个R1、R2或R3的情况下，它们可以相同也可以不同。]。
主权项：1.一种氧化硅膜，其特征在于，膜厚为300nm以下；且在弯曲半径为5mm、弯曲次数为10万次的条件下，实施U字型弯折试验后的水分透过率WVTR为9.0×10-3gm2·day以下。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东曹株式会社 气体阻隔膜用材料、氧化硅膜和氧化硅膜的制造方法
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