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申请/专利权人:广东晶智光电科技有限公司
摘要:一种锑化铟晶体的生长方法包括步骤:S1,装料,将掺杂剂颗粒铺在坩埚的底部,将InSb多晶料铺在掺杂剂颗粒上,掺杂剂与InSb多晶料的掺杂比例为0.5‑1g10kg,掺杂剂的纯度为5N以上,InSb多晶料的纯度为7.5N以上,掺杂剂选自GaN、GaP、InP、GaAs、InAs、GaSb中的一种或几种;S2,将提拉法晶体生长设备抽真空、赶气、检漏,以使提拉法晶体生长设备内达到真空;S3,将氮气‑氢气混合气通入提拉法晶体生长设备内,维持0.1MPa;S4,化料;S5,在形成熔体后,压力升至0.15MPa时维持坩埚的温度不变;S6,直拉进行晶体生长以形成晶棒;S7,晶体生长完成后,停止加热、降温、将提拉法晶体生长设备内的气体置换为氮气后,打开提拉法晶体生长设备,将晶棒从拉晶杆上剪下。
主权项:1.一种锑化铟晶体的生长方法,其特征在于,包括步骤:S1,装料,将掺杂剂颗粒铺在坩埚的底部,将InSb多晶料铺在掺杂剂颗粒上,掺杂剂与InSb多晶料的掺杂比例为0.5-1g10kg,掺杂剂的纯度为5N以上,InSb多晶料的纯度为7.5N以上,掺杂剂选自GaN、GaP、InP、GaAs、InAs、GaSb中的一种或几种;S2,将提拉法晶体生长设备抽真空、赶气、检漏,以使提拉法晶体生长设备内达到真空;S3,将氮气-氢气混合气通入提拉法晶体生长设备内,以使提拉法晶体生长设备内的压力维持0.1MPa;S4,化料,开启对坩埚的加热,升温融化坩埚内的InSb多晶料和掺杂剂颗粒;S5,在InSb多晶料和掺杂剂颗粒完全融化形成熔体后,提拉法晶体生长设备内的压力升至0.15MPa时维持坩埚的温度不变;S6,在步骤S5之后,拉晶杆带动籽晶向下运动进入坩埚内、从熔体表面浸入、之后拉晶杆向上进行直拉进行晶体生长以形成晶棒,在晶体生长过程中坩埚和拉晶杆保持相反的转速,坩埚的转速为0.5-1.5rpm,拉晶杆的转速2-4rpm,籽晶为纯度7.5N的锑化铟单晶,拉速恒定为5-15mmh;S7,晶体生长完成后,停止加热、降温、将提拉法晶体生长设备内的气体置换为氮气后,打开提拉法晶体生长设备,将晶棒从拉晶杆上剪下。
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