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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本申请涉及热处理装置。在对处理空间内的基板进行加热处理的情况下提高加热处理结果的面内均匀性。一种热处理装置，其对基板进行加热处理，其中，该热处理装置具备：热板，其载置所述基板，加热该载置的基板；上部盖，其覆盖所述热板的上方的处理空间，形成作为所述基板相对于所述处理空间送入送出的送入送出口的开口；排气部，其设置在俯视时与所述开口隔着所述热板相对的位置，从所述处理空间排气；闸门，其构成为能够覆盖所述开口的下部；以及气流引导件，其设于与所述闸门分离开的位置，所述气流引导件使由于所述排气部的排气而从由所述闸门覆盖下部的所述开口的上部流入所述处理空间的气体向上侧和下侧分流。
主权项：1.一种热处理装置，其对基板进行加热处理，其特征在于，该热处理装置具备：热板，其载置所述基板，加热该载置的基板；上部盖，其覆盖所述热板的上方的处理空间，形成作为所述基板相对于所述处理空间送入送出的送入送出口的开口；排气部，其设置在俯视时与所述开口隔着所述热板相对的位置，从所述处理空间排气；闸门，其构成为能够覆盖所述开口的下部；以及气流引导件，其设于与所述闸门分离开的位置，所述气流引导件使由于所述排气部的排气而从由所述闸门覆盖下部的所述开口的上部流入所述处理空间的气体向上侧和下侧分流。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 热处理装置
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