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申请/专利权人：上海交通大学
摘要：本申请公开一种光敏聚合物及其制备方法、用途、正性光刻胶，所述光敏聚合物的结构式包括如下式I所示的第一结构单元：在所述式I中，m为1～1000的整数；Ar1的结构式为R1～R5独立地选自氢、甲基、二甲基；Ar3为去除二酐单体的结构式中的两个酸酐基团后剩余的基团；R为去除醇类物质的结构式中的醇羟基的氢原子后剩余的基团。本申请所述的光敏聚合物能够低温固化，同时还兼具良好的光刻性能、力学性能、介电性能、热学性能以及耐化学药品性能。
主权项：1.一种光敏聚合物，其特征在于，其结构式包括如下式I所示的第一结构单元： 在所述式I中，m为1～1000的整数；Ar1的结构式为且R1～R5独立地选自氢、甲基、二甲基；Ar3为去除二酐单体的结构式中的两个酸酐基团后剩余的基团；R为去除醇类物质的结构式中的醇羟基的氢原子后剩余的基团。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海交通大学 光敏聚合物及其制备方法、用途、正性光刻胶
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