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申请/专利权人：上海镭利电子材料有限公司
摘要：本发明涉及光刻丙烯酸树脂技术领域，尤其涉及IPCC08F236领域，更具体的，涉及一种用于高精密电铸板的高耐酸、高纵深比光刻胶膜用丙烯酸树脂及其制备方法。组分包括：甲基丙烯酸甲酯、苯乙烯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸苄基酯、引发剂和溶剂。采用高压工艺，同时优选调整最佳的丙烯酸单体、引发剂体系，选用偶氮二异丁腈为引发剂，在较低的反应温度90℃下，通过延长滴加时间及多次补加引发剂后再次保温的方法使得树脂拥有高转化率，达到99％，同时控制反应温度与滴加时间，使得树脂分子量控制在较高水平又不影响树脂成膜性能。
主权项：1.一种用于高精密电铸板的高耐酸、高纵深比光刻胶膜用丙烯酸树脂，其特征在于，组分包括：甲基丙烯酸甲酯、苯乙烯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸苄基酯、引发剂和溶剂。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海镭利电子材料有限公司 一种用于高精密电铸板的高耐酸高纵深比光刻胶膜用丙烯酸树脂及其制备方法
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