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矫正装置、曝光装置、涂布显影装置、曝光系统、曝光方法、及元件制造方法 

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申请/专利权人:株式会社尼康

摘要:本发明的矫正装置具备:载置装置,其载置晶片;加热部,对载置于载置装置的晶片进行加热;力施加部,对载置于载置装置的晶片施加力;第一传送装置,传送自载置装置取下的晶片;及控制部,对加热部及力施加部进行控制,控制部一边借由加热部对晶片进行加热,一边借由力施加部向晶片施加力,而进行晶片的形状矫正,第一传送装置传送已进行形状矫正的晶片。

主权项:1.一种矫正装置,具备:载置装置,载置晶片;加热部,对载置于上述载置装置的上述晶片进行加热;力施加部,对载置于上述载置装置的上述晶片施加力;第一传送装置,传送自上述载置装置取下的上述晶片;及控制部,控制上述加热部及上述力施加部,上述控制部一边借由上述加热部对上述晶片进行加热,一边借由上述力施加部向上述晶片施加力,而进行上述晶片的形状矫正,上述第一传送装置传送已进行上述形状矫正的上述晶片。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 株式会社尼康 矫正装置、曝光装置、涂布显影装置、曝光系统、曝光方法、及元件制造方法

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