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申请/专利权人：浙江珏芯微电子有限公司
摘要：本发明提供了一种改善光刻曝光均匀性的方法，属于制冷红外探测器领域。该改善光刻曝光均匀性的方法包括提供一基板，所述基板具有第一端部和第二端部，将所述基板的第一端部做倒角处理，以在所述第一端部形成倒角部。将具有倒角部的基板涂布光刻胶，并将所述光刻胶固化。将固化之后的光刻胶进行曝光，以得到目标图形。本发明通过基板的第一端部做倒角处理，在第一端部形成倒角部。当后续对基板进行涂布光刻胶、对光刻胶进行固化之后，再通过接触式曝光的方式进行曝光，可以避免在光刻版与光刻胶之间存在间隙，使得光刻版与光刻胶紧密贴合。提高了曝光图形的分辨率，也提高了图形效果。
主权项：1.一种改善光刻曝光均匀性的方法，其特征在于，包括：提供一基板，所述基板具有第一端部和第二端部，将所述基板的第一端部做倒角处理，以在所述第一端部形成倒角部；将具有倒角部的基板涂布光刻胶，并将所述光刻胶固化；将固化之后的光刻胶进行曝光，以得到目标图形。
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权利要求：
百度查询： 浙江珏芯微电子有限公司 改善光刻曝光均匀性的方法
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