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【发明授权】一种版图中Finger晶体管的识别方法_杭州广立微电子股份有限公司_202110393955.8 

申请/专利权人:杭州广立微电子股份有限公司

申请日:2021-04-13

公开(公告)日:2022-09-06

公开(公告)号:CN113283291B

主分类号:G06V30/422

分类号:G06V30/422;G06V10/24

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2022.09.06#授权;2021.09.07#实质审查的生效;2021.08.20#公开

摘要:本发明提供了一种版图中Finger晶体管的识别方法,包括:对多晶硅层和有源区层的多边形进行“AND操作”得到的多边形,并将得到的每个多边形作为备选Gate加入备选Gate列表;从所述备选Gate列表中取备选Gate作为当前备选Gate,识别出当前备选Gate的相关Gate,并利用识别出的相关Gate判断当前备选Gate是否为Finger晶体管中的Gate,若是,则识别出所述Finger晶体管的源极、漏极和栅极;直至对备选Gate列表中的所有备选Gate完成处理,识别出所有Finger晶体管。步骤简洁,准确性好,能快速识别出Finger晶体管的栅极、源极、漏极,为制造厂商进行设计生产提供更有效和精确的指导。

主权项:1.一种版图中Finger晶体管的识别方法,其特征在于,包括:步骤S1:获取版图信息,对多晶硅层和有源区层的多边形进行“AND操作”,将“AND操作”后得到的多边形作为备选Gate加入备选Gate列表;其中,所述“AND操作”是指获取两层多边形的重叠区域图形的操作;步骤S2:依次从所述备选Gate列表中取备选Gate作为当前备选Gate,识别出当前备选Gate的相关Gate,并利用识别出的相关Gate判断当前备选Gate是否为Finger晶体管中的Gate,若是,则识别出所述Finger晶体管的源极、漏极和栅极;直至对备选Gate列表中的所有备选Gate完成处理,实现在版图中识别出所有Finger晶体管;识别出当前备选Gate所在Finger晶体管中的源极、漏极和栅极,具体包括:识别与所述当前备选Gate存在重叠区域的有源区层的多边形,并对所述有源区层的多边形和所述当前备选Gate进行“OR操作”,将得到的图形和有源区层的多边形进行“AND操作”,将得到的图形和多晶硅层的多边形进行“MINUS操作”,将得到的图形记为图形h;其中,所述“OR操作”是指对两个多边形图形取并集以得到图形的操作;所述“MINUS操作”是指将前一个图形减去后一个图形得到新图形的操作;将所述备选Gate列表中的所有备选Gate与当前备选Gate的相关Gate进行“AND操作”后,得到若干备选Gate组成的图形并记为图形g;识别出图形h中和图形g相连的多边形并记为图形i;从图形i中找出其中一个多边形,将所述多边形确定为所述Finger晶体管的源极或漏极,然后确定图形i中其余多边形为所述Finger晶体管的源极或漏极;使其满足图形i中任意两个相邻的多边形,一个为所述Finger晶体管的源极,另一个为所述Finger晶体管的漏极;图形g中的每个多边形即为所述Finger晶体管的栅极;完成对当前备选Gate所在Finger晶体管中的源极、漏极和栅极的识别。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 杭州广立微电子股份有限公司 一种版图中Finger晶体管的识别方法

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