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【发明公布】一种multi-finger MOS器件版图的EM和IR分析方法_北京华大九天科技股份有限公司_202310661966.9 

申请/专利权人:北京华大九天科技股份有限公司

申请日:2023-06-06

公开(公告)日:2023-11-07

公开(公告)号:CN117010321A

主分类号:G06F30/398

分类号:G06F30/398;H01L27/02

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.11.24#实质审查的生效;2023.11.07#公开

摘要:一种multi‑fingerMOS器件版图的EM和IR分析方法,包括以下步骤:获取原始版图信息;对栅极图层的几何图形进行矩形化处理;利用源极图层、漏极图层的几何图形过滤栅极图层的矩形;根据栅极图层图形的宽长比确定处理后MOS器件的方向;计算处理后MOS器件的宽度以及对应阵列的行数和列数,得到MOS器件阵列的坐标位置信息;删除原始的multi‑fingerMOS器件区域,根据所述MOS器件阵列的坐标位置信息生成新的MOS器件阵列;对含有新的MOS器件阵列的版图提取寄生参数信息;根据所述寄生参数信息,进行EM和IR分析,输出分析结果。本发明的方法极大简化了对multi‑fingerMOS器件版图做精确EM和IR分析的流程,无需人工修正版图,即可完成对multi‑fingerMOS器件版图的EM和IR的精确分析。

主权项:1.一种multi-fingerMOS器件版图的EM和IR分析方法,包括以下步骤:获取原始版图信息;对栅极图层的几何图形进行矩形化处理;利用源极图层、漏极图层的几何图形过滤栅极图层的矩形;根据栅极图层图形的宽长比确定处理后MOS器件的方向;计算处理后MOS器件的宽度以及对应阵列的行数和列数,得到MOS器件阵列的坐标位置信息;删除原始的multi-fingerMOS器件区域,根据所述MOS器件阵列的坐标位置信息生成新的MOS器件阵列;对含有所述新的MOS器件阵列的版图提取寄生参数信息;根据所述寄生参数信息,进行EM和IR分析,输出分析结果。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京华大九天科技股份有限公司 一种multi-finger MOS器件版图的EM和IR分析方法

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