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一种分析库构建方法、设计版图布局方法、系统及存储介质 

申请/专利权人:东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司

申请日:2024-04-09

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN118261106A

主分类号:G06F30/392

分类号:G06F30/392;G06F30/398;G06F111/20

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.28#公开

摘要:本发明涉及芯片设计领域,特别涉及一种分析库构建方法、设计版图布局方法、系统及存储介质。本发明提供的分析库构建方法包括以下步骤:提供设计版图的设计过程中的的标准单元;选择标准单元相邻设置并基于神经网络模型检测标准单元相邻时的坏点数值;收集坏点数值得到标准单元的标准单元分析库。本发明通过神经网络模型来快速分析预设的各种标准单元相邻设置时坏点数值,并将标准单元组合及其对应的坏点数值集合设置为标准单元分析库,通过神经网络模型的快速分析处理能力来进行分析使得构建该标准单元分析库需要的时间较短,同时检索调阅该标准单元分析库可以快速高效地得到不同标准单元相邻设置时的坏点数值。

主权项:1.一种分析库构建方法,其特征在于,包括以下步骤:提供设计版图的设计过程中的标准单元;选择所述标准单元相邻设置并基于神经网络模型检测所述标准单元相邻时的坏点数值;收集所述坏点数值得到所述标准单元的标准单元分析库。

全文数据:

权利要求:

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