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生成曲线SRAF的方法、验证MRC的方法和制造掩模的方法 

申请/专利权人:三星电子株式会社

申请日:2022-09-20

公开(公告)日:2023-06-09

公开(公告)号:CN116243553A

主分类号:G03F1/36

分类号:G03F1/36

优先权:["20211208 KR 10-2021-0175210"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2023.06.09#公开

摘要:公开了一种生成曲线亚分辨率辅助特征SRAF的方法、一种用于对该曲线SRAF进行简单MRC验证的MRC验证方法以及一种包括生成该曲线SRAF的方法的掩模制造方法,该生成该曲线SRAF的方法能够容易地生成满足掩模规则检查MRC条件的曲线SRAF。该生成该曲线SRAF的方法包括:生成与主要特征相对应的用于生成该曲线SRAF的曲线轴;在该曲线轴的线上生成曲线点;以及基于该曲线点生成该曲线SRAF。

主权项:1.一种生成曲线亚分辨率辅助特征的方法,所述方法包括:生成与主要特征相对应的用于生成所述曲线亚分辨率辅助特征的曲线轴;在所述曲线轴的线上生成曲线点;以及基于所述曲线点生成所述曲线亚分辨率辅助特征。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 三星电子株式会社 生成曲线SRAF的方法、验证MRC的方法和制造掩模的方法

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