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SRF基材的导电薄膜及制备方法、装置 

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申请/专利权人:江苏日久光电股份有限公司

摘要:本发明公开了SRF基材的导电薄膜及制备方法、装置,其中导电薄膜,基材层及依次叠层设于基材层第一侧的打底层、二氧化硅层和ITO导电层,打底层由第一涂布液涂布制成,涂布厚度为700‑900nm,打底层由第一涂布液涂布制成,第一涂布液以重量份计,包括以下组份:丙烯酸类树脂35‑50份;溶剂50‑70份;低折填料15‑25份;引发剂1‑5份;分散剂1‑5份,打底层的折射率为1.52‑1.55。本发明通过优化导电薄膜的结构和涂层组成,充分利用光学延迟现象,而形成弱柔性偏光片在偏光镜使用下无彩虹纹现象,可以消除彩虹纹的现象,提高了显示质量。

主权项:1.一种SRF基材的导电薄膜,其特征在于:包括SRF基材层,及依次叠层设于SRF基材层第一侧的打底层、二氧化硅层和ITO导电层;所述打底层由第一涂布液涂布制成,所述打底层厚度为700-900nm,所述第一涂布液以重量份计,包括以下组份:丙烯酸类树脂35-50份;溶剂50-70份;第一填料15-25份;光引发剂1-5份;分散剂1-5份;所述第一填料为低折射率的无机粒子,所述无机粒的折射率为1.42-1.45,所述打底层的折射率为1.52-1.55。

全文数据:

权利要求:

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