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【发明公布】一种偏光膜缺点检查喷印装置及方法_恒美光电股份有限公司_202310928885.0 

申请/专利权人:恒美光电股份有限公司

申请日:2023-07-27

公开(公告)日:2023-10-27

公开(公告)号:CN116945778A

主分类号:B41J3/44

分类号:B41J3/44;B41J3/407;B41J2/01;B41J29/393

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.11.14#实质审查的生效;2023.10.27#公开

摘要:本发明公开了一种偏光膜缺点检查喷印装置及方法,装置包括自动光学检查机、喷墨装置、备用轴喷墨装置和控制系统;自动光学检查机、喷墨装置和备用轴喷墨装置依次横置在偏光膜膜流方向的上方;控制系统分别与自动光学检查机、喷墨装置、备用轴喷墨装置电连接。本发明自动化程度高、喷印达成率高,能够很好地适用于现代偏光膜生产,具有非常广阔的应用前景。

主权项:1.一种偏光膜缺点检查喷印装置,其特征在于,包括自动光学检查机、喷墨装置、备用轴喷墨装置和控制系统;自动光学检查机、喷墨装置和备用轴喷墨装置依次横置在偏光膜膜流方向的上方;控制系统分别与自动光学检查机、喷墨装置、备用轴喷墨装置电连接。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 恒美光电股份有限公司 一种偏光膜缺点检查喷印装置及方法

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