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【发明公布】一种暗沟排水系统、暗沟构筑方法及应用_邓明雪;祝进;袁兴亮_202310879477.0 

申请/专利权人:邓明雪;祝进;袁兴亮

申请日:2023-07-18

公开(公告)日:2023-12-12

公开(公告)号:CN117211239A

主分类号:E02B11/00

分类号:E02B11/00

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.12.29#实质审查的生效;2023.12.12#公开

摘要:本发明为解决现有技术中存在的缺陷,提供一种暗沟排水系统、暗沟构筑方法及应用。该暗沟排水系统包括沟槽、支撑体和回填层。支撑体铺设于所述沟槽内底部,其横截面呈局部敞口形状或者周向封闭形状;在支撑体的侧壁开设有若干贯通的流道;流道的横截面呈扇形、纺锤形或者内凹式腰鼓形。支撑体的横截面呈局部敞口形状时,其敞口区域朝向所述沟槽的底部,合围内部区域即为暗沟;支撑体的横截面呈周向封闭形状时,内部中空区域即为暗沟。该暗沟排水系统中采用支撑体直接隔离的方式于沟槽内形成暗沟,并在支撑体上设置流道,实现排水、透气。同时,暗沟的横截面积较大,不容易堵塞,使用寿命较长,适用场景多。该暗沟构筑方法,操作简单,成本低。

主权项:1.一种暗沟排水系统,其特征在于,所述暗沟排水系统包括:沟槽,所述沟槽设置于基层上;支撑体,所述支撑体具有一个或者多个,铺设于所述沟槽内底部;所述支撑体的横截面呈局部敞口形状或者周向封闭形状;在所述支撑体的侧壁上沿所述支撑体的长度方向开设有若干贯通的流道;所述流道的横截面呈扇形、纺锤形或者内凹式腰鼓形;所述支撑体为多个时,多个所述支撑体头尾依次连接;回填层,所述回填层铺设于所述支撑体外侧的述沟槽区域内;其中,所述支撑体的横截面呈局部敞口形状时,其敞口区域朝向所述沟槽的底部;所述支撑体和所述沟槽的底部合围内部区域即为暗沟;所述支撑体的横截面呈周向封闭形状时,所述支撑体内部中空区域即为暗沟。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 邓明雪;祝进;袁兴亮 一种暗沟排水系统、暗沟构筑方法及应用

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