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【发明公布】氮化硅陶瓷及其制备方法_清华大学_202410051503.5 

申请/专利权人:清华大学

申请日:2024-01-12

公开(公告)日:2024-05-17

公开(公告)号:CN118047617A

主分类号:C04B35/587

分类号:C04B35/587;C04B35/593;C04B35/622;C04B35/645

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.06.04#实质审查的生效;2024.05.17#公开

摘要:本发明提供了氮化硅陶瓷及其制备方法。该方法包括:提供原料,原料包括第一氮化硅粉体、第二氮化硅粉体、烧结助剂和分散剂,第一氮化硅粉体和第二氮化硅粉体的体积平均粒径Dv50的比例为5‑100:1;将原料混合后进行球磨,然后进行干燥,得到待烧料;将待烧料进行烧结,烧结压力为25MPa‑300MPa,升压方式为振动式升压,烧结温度为1400℃‑1500℃,保温时间为20min‑60min,冷却后得到氮化硅陶瓷。由此,通过调整原料中氮化硅粉体的粒径并配合使用振动式升压的方式,促使第二氮化硅粉体填充到第一氮化硅粉体颗粒之间的间隙,单纯通过颗粒重排实现了氮化硅陶瓷的致密化,从而降低了烧结所需的温度和压力,缩短了烧结所需的时间,大大降低了氮化硅陶瓷的制备成本。

主权项:1.一种制备氮化硅陶瓷的方法,其特征在于,包括:1提供原料,所述原料包括第一氮化硅粉体、第二氮化硅粉体、烧结助剂和分散剂,所述第一氮化硅粉体和所述第二氮化硅粉体的体积平均粒径Dv50的比例为5-100:1;2将所述原料混合后进行球磨,然后进行干燥,得到待烧料;3将所述待烧料进行烧结,烧结压力为25MPa-300MPa,升压方式为振动式升压,烧结温度为1400℃-1500℃,保温时间为20min-60min,冷却后得到氮化硅陶瓷。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 清华大学 氮化硅陶瓷及其制备方法

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