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申请/专利权人：旭化成株式会社
申请日：2022-10-07
公开（公告）日：2024-06-07
公开（公告）号：CN118159908A
主分类号：G03F7/004
分类号：G03F7/004;G03F7/027;G03F7/031;G03F7/033;H05K3/06;H05K3/18
优先权：["20211025 JP 2021-173949"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.07#公开
摘要：本发明提供一种显影装置停止后的显影液消泡良好的感光性元件、及抗蚀图案的形成方法。本发明的感光性元件具备支撑薄膜、及形成于支撑薄膜上的含有感光性树脂组合物的感光性树脂组合物层；感光性树脂组合物含有：A碱溶性高分子、B具有烯属不饱和双键的化合物、C敏化剂、以及D阻聚剂；A碱溶性高分子含有：单体成分含有芳香族烃基且重均分子量Mw为20,000以下的碱溶性高分子；B具有烯属不饱和双键的化合物为具有下述通式B1所表示的结构的化合物。式中，R1及R2各自独立地表示氢或碳，A为碳数1～2的二价烃基，P为碳数3的二价烃基；AO及PO的排列可为无规或嵌段；m1+m2为0～10的整数，n为1～30的整数。
主权项：1.一种感光性元件，其具备支撑薄膜、及形成于所述支撑薄膜上的含有感光性树脂组合物的感光性树脂组合物层；所述感光性树脂组合物含有：A碱溶性高分子、B具有烯属不饱和双键的化合物、C敏化剂、以及D阻聚剂；所述A碱溶性高分子含有：单体成分含有芳香族烃基且重均分子量Mw为20,000以下的碱溶性高分子；所述B具有烯属不饱和双键的化合物为具有下述通式B1所表示的结构的化合物： 式B1中，R1及R2各自独立地表示氢或碳，A为碳数1～2的二价烃基，P为碳数3的二价烃基；AO及PO的排列任选为无规或嵌段；m1+m2为0～10的整数，n为1～30的整数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 旭化成株式会社 感光性元件、及抗蚀图案的形成方法
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