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申请/专利权人：江苏鲁汶仪器股份有限公司
申请日：2022-12-06
公开（公告）日：2024-06-07
公开（公告）号：CN118156108A
主分类号：H01J37/147
分类号：H01J37/147;H01J37/30
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.06.25#实质审查的生效;2024.06.07#公开
摘要：本申请提供了一种离子束刻蚀中的离子栅网结构，包括：屏栅和位于屏栅远离放电腔室的一侧的至少一个栅网；屏栅与电介质接触；栅网中的至少一个与电介质接触。本申请通过设置电介质作为离子栅网结构的栅网骨架，从而栅网的机械强度都由电介质来承担，从而提高了离子栅网结构的机械强度，增强了离子栅网结构的稳定性和可靠性。
主权项：1.一种离子束刻蚀中的离子栅网结构，其特征在于，包括：屏栅和位于所述屏栅远离放电腔室的一侧的至少一个栅网；所述屏栅与电介质接触；所述栅网中的至少一个与所述电介质接触。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 江苏鲁汶仪器股份有限公司 一种离子束刻蚀中的离子栅网结构
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