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申请/专利权人：弗萨姆材料美国有限责任公司
申请日：2022-09-20
公开（公告）日：2024-06-07
公开（公告）号：CN118159635A
主分类号：C11D11/00
分类号：C11D11/00;C23G1/02;C23G1/06;G03F7/42;H01L21/02;H01L21/027;H01L21/033;H01L21/311;H05K3/06
优先权：["20210923 US 63/247,347"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.07#公开
摘要：所公开和要求保护的主题涉及具有受控氧化物蚀刻和ITO氧化铟锡蚀刻以及侧壁聚合物和聚合物蚀刻残留物去除能力的剥离组合物，和涉及利用该组合物进行剥离和蚀刻的方法。
主权项：1.一种组合物，其包含i约1重量％至约10重量％的一种或多种多元醇；ii约50重量％至约80重量％的iia一种或多种有机水溶性二醇醚溶剂或iib一种或多种选自二乙基甲酰胺DEF、N-甲基甲酰胺、N-乙基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺或N,N-二甲基丙酰胺的酰胺；iii约0.1重量％至约0.5重量％的氟离子源，其包括净氟化铵和净HF中的一种或多种；iv约1重量％至约10重量％的一种或多种缓冲剂；v约10重量％至约40重量％的水；和vi任选的一种或多种腐蚀抑制剂。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 弗萨姆材料美国有限责任公司 干燥后蚀刻光致抗蚀剂和含金属残留物去除制剂
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