申请/专利权人:北京石墨烯研究院;北京大学
申请日:2024-03-13
公开(公告)日:2024-06-07
公开(公告)号:CN118147603A
主分类号:C23C16/26
分类号:C23C16/26;C23C16/52;C23C16/455
优先权:
专利状态码:在审-公开
法律状态:2024.06.07#公开
摘要:本发明公开一种石墨烯薄膜及其制备方法和制备装置。所述制备装置包括用于放置基底的载体和设置在所述载体上方的矫正板,所述矫正板与所述载体之间在沿碳源气体的流动方向的角度θ可调节。本发明通过在气相沉积中设置夹角可变的矫正板与载体,可以解决在放大生产过程中基底沿气流方向的尺寸增长带来的不均匀性问题,实现了大尺寸高质量高均匀性石墨烯薄膜的制备。
主权项:1.一种气相沉积装置,其特征在于,包括用于放置基底的载体和设置在所述载体上方的矫正板,所述矫正板与所述载体之间在沿碳源气体的流动方向的角度θ可调节。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 北京石墨烯研究院;北京大学 石墨烯薄膜及其制备方法和制备装置
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。