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【发明公布】石墨烯薄膜及其制备方法和制备装置_北京石墨烯研究院;北京大学_202410288656.1 

申请/专利权人:北京石墨烯研究院;北京大学

申请日:2024-03-13

公开(公告)日:2024-06-07

公开(公告)号:CN118147603A

主分类号:C23C16/26

分类号:C23C16/26;C23C16/52;C23C16/455

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.07#公开

摘要:本发明公开一种石墨烯薄膜及其制备方法和制备装置。所述制备装置包括用于放置基底的载体和设置在所述载体上方的矫正板,所述矫正板与所述载体之间在沿碳源气体的流动方向的角度θ可调节。本发明通过在气相沉积中设置夹角可变的矫正板与载体,可以解决在放大生产过程中基底沿气流方向的尺寸增长带来的不均匀性问题,实现了大尺寸高质量高均匀性石墨烯薄膜的制备。

主权项:1.一种气相沉积装置,其特征在于,包括用于放置基底的载体和设置在所述载体上方的矫正板,所述矫正板与所述载体之间在沿碳源气体的流动方向的角度θ可调节。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京石墨烯研究院;北京大学 石墨烯薄膜及其制备方法和制备装置

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