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申请/专利权人：西安知微传感技术有限公司
申请日：2021-11-23
公开（公告）日：2024-06-07
公开（公告）号：CN114035253B
主分类号：G02B5/08
分类号：G02B5/08;G02B7/182;G02B7/198;G02B1/10;G02B26/08;G02B26/10
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.07#授权;2022.03.01#实质审查的生效;2022.02.11#公开
摘要：本发明提供了一种具有杂散光消除功能的MEMS微镜、激光扫描设备和微镜的制作方法。具有杂散光消除功能的MEMS微镜，其特征在于，包括：框架结构，框架结构的表面设置有消光层，框架结构具有孔结构；扭转结构，扭转结构设置在孔结构处，且扭转结构与孔结构的孔壁连接；反射镜，扭转结构支撑反射镜。本发明解决了现有技术中MEMS微镜存在杂散光的问题。
主权项：1.一种具有杂散光消除功能的MEMS微镜，其特征在于，包括：框架结构（10），所述框架结构（10）的上表面设置有消光层（12），所述框架结构（10）具有孔结构（11）；扭转结构（20），所述扭转结构（20）设置在所述孔结构（11）处，且所述扭转结构（20）的至少一部分与所述孔结构（11）的孔壁连接；反射镜（30），所述扭转结构（20）支撑所述反射镜（30）；所述消光层（12）为凹凸结构（40），所述凹凸结构（40）的深度大于等于2μm且小于等于12μm，所述凹凸结构（40）的表面为粗糙的表面，所述凹凸结构（40）的粗糙度Ra大于等于1μm；所述消光层（12）采用激光刻蚀制作而成，所述框架结构（10）的上表面全部被刻蚀。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 西安知微传感技术有限公司 具有杂散光消除功能的MEMS微镜、激光扫描设备和微镜的制作方法
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