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【发明公布】一种减小晶圆平边部位风纹宽度的工艺_沈阳芯源微电子设备股份有限公司_202211601534.0 

申请/专利权人:沈阳芯源微电子设备股份有限公司

申请日:2022-12-13

公开(公告)日:2024-06-14

公开(公告)号:CN118192172A

主分类号:G03F7/20

分类号:G03F7/20;H01L33/00;G03F7/16;G03F7/42

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.14#公开

摘要:本发明公开了一种减小晶圆平边部位风纹宽度的工艺,属于LED制造领域。该方法在加大涂胶过程中的排风值的同时,增加喷胶前晶圆边缘溶剂润洗过程,在保证胶膜厚度的均匀性基础上,降低了排风增大导致均匀性变差的问题、减小了晶圆平边部位风纹宽度、节约了光刻胶;使平边风纹宽度由864μm宽降到457μm以内,降低了晶圆无效区、提高了晶圆利用率、降低了产品成本。

主权项:1.一种减小晶圆平边部位风纹宽度的工艺,其特征在于:该方法具体包括如下步骤:1设置涂胶腔室排风参数;2晶圆预处理;3光刻胶涂覆;4匀胶;5溶剂背喷,甩干;6曝光显影。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 一种减小晶圆平边部位风纹宽度的工艺

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