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申请/专利权人：尼尔特瑞士有限公司
申请日：2022-08-12
公开（公告）日：2024-06-14
公开（公告）号：CN118202279A
主分类号：G02B5/18
分类号：G02B5/18;G02B1/00
优先权：["20210827 US 63/237,726"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.14#公开
摘要：描述了由多个子层构成的超构结构，每个子层具有各自的不同于其它子层中的至少一个子层的折射率的折射率；以及用于制造超构结构的方法。还描述了在所述方法期间可以被生产的中间晶片。
主权项：1.一种方法，包括：在包括多个子层的层上设置硬掩模层，所述子层均具有各自的不同于其它子层中的至少一个子层的折射率的折射率，其中所述子层中的至少一个子层具有在2至4的范围内的折射率，并且其中包括多个所述子层的所述层由基板支撑；在所述硬掩模层上沉积抗蚀剂层；将工具的表面压入所述抗蚀剂层中，其中所述工具的所述表面包括压印到所述抗蚀剂层中的特征；以及将所述工具从所述抗蚀剂层释放。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 尼尔特瑞士有限公司 具有包括不同的各自折射率的多个子层的超构原子的光学超构结构
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