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申请/专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日：2024-01-19
公开（公告）日：2024-06-14
公开（公告）号：CN118192173A
主分类号：G03F7/20
分类号：G03F7/20
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.14#公开
摘要：本发明提供一种版图设计中光罩有效图形重复曝光的检查方法，包括：获取产品的版图数据；根据曝光单元的GDS版图数据转换出与曝光单元相邻的上下左右的四个曝光单元的Mask属性数据；Mask属性数据包含四个曝光单元各自与曝光单元的重复曝光区域的标记图形区域在对所述曝光单元曝光时是否透光的信息。将四个曝光单元的Mask属性数据按照实际曝光的步进要求，拼接为一个GDS数据；将拼接后的GDS数据进行数据运算，判段有无重复曝光区域。基于GDS版图数据即可进行自行检查，无需光罩厂提供JDV数据。可以快速判定光罩设计中是否存在有效图形重复曝光，相比于手动拼接和目视检查的方式，检查效率和检查准确性都得到大大提高。
主权项：1.一种版图设计中光罩有效图形重复曝光的检查方法，其特征在于，包括：获取产品的版图数据，所述版图数据包括曝光单元的GDS版图数据；根据所述曝光单元的所述GDS版图数据转换出与所述曝光单元相邻的上下左右的四个曝光单元的Mask属性数据；所述Mask属性数据包含相邻的所述四个曝光单元各自与所述曝光单元的重复曝光区域的标记图形区域在对所述曝光单元曝光时是否透光的信息；将所述四个曝光单元的Mask属性数据按照实际曝光的步进要求，拼接为一个GDS数据；将拼接后的所述GDS数据进行数据运算，若数据运算有交集，判定为有重复曝光区域；若数据运算无交集，判定为无重复曝光区域。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海华虹宏力半导体制造有限公司 版图设计中光罩有效图形重复曝光的检查方法
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