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申请/专利权人：天集化工助剂(沧州)有限公司;北京天罡助剂有限责任公司;天罡新材料(廊坊)股份有限公司
申请日：2022-06-06
公开（公告）日：2024-06-18
公开（公告）号：CN115010911B
主分类号：C08G63/91
分类号：C08G63/91;C08G69/48;C08L23/12;C08L67/02;C08L77/06;C08L23/06;C08L27/06
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.18#授权;2022.09.23#实质审查的生效;2022.09.06#公开
摘要：本发明公开了一种聚合型空间位阻胺及其制备方法和应用。本发明中，通过将待修饰高分子母体以及位阻胺修饰体进行聚合反应，得到聚合型的高分子量位阻胺稳定剂。这种新型空间位阻胺光稳定剂，除了具有高效的防老化性能、分子量高、在高分子材料制品中不易迁出、热稳定性好等优点，还可以通过改变取代基，使其具备与不同种类的高分子材料良好的相容性；通过选择特定含有NOR胺醚结构的位阻胺修饰体聚合反应而得到的NOR胺醚型高分子化合物具备低碱性以及阻燃性等优势。本发明所提供的制备方法更加简洁，且低碳环保。
主权项：1.一种聚合型空间位阻胺，其具有如通式Ⅰ所示的结构： A、B为相同或不同的位阻胺结构；n为聚合型空间位阻胺的聚合度，其为3-1000的整数；k和t分别表示每个重复单元上接枝的A、B的平均数量，k和t独立地选自0-10，且k+t*n≥1；R1选自于C1-C22亚烷基；其中R1中的k个氢原子被A-O-取代；R2选自于C1-C22亚烷基；其中R2中的t个氢原子被B-O-取代；X1、X2独立地选自：单键、-O-、-NH-；Y1和Y2独立地选自：单键、-O-、-NH-；RT1、RT2为相同或不同的封端基团；所述的RT1选自：-OH、C1～C12烷基、C1-C12烷氧基，其中，X选自：苯基、萘基、C1～C30烷基，RA选自：C1～C12烷基；所述的RT2选自：-H、C1-C12烷基、-OH、C1-C12烷氧基；所述位阻胺选自如下结构：
全文数据：
权利要求：
百度查询： 天集化工助剂(沧州)有限公司;北京天罡助剂有限责任公司;天罡新材料(廊坊)股份有限公司 一种聚合型空间位阻胺及其制备方法和用途
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