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申请/专利权人：安徽富乐德长江半导体材料股份有限公司
申请日：2024-04-30
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN118218353A
主分类号：B08B9/28
分类号：B08B9/28
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.21#公开
摘要：本发明提供一种减少片盒金属颗粒残留的清洗设备及工艺，包括用于承载片盒的承载平台，所述承载平台上端安装有清洗装置，所述承载平台表面设置有若干个承载开口，多个所述片盒位于对应的承载开口内阵列布置，同一纵列多个所述片盒的外边缘极限端点位于同一虚拟的接触线上；还包括导电装置，所述导电装置包括活动设置的导电丝，所述导电丝与接触线平行，所述导电丝具有靠近片盒的第一位置和远离片盒的第二位置。该发明能够一次对多个片盒进行静电释放，提高了静电释放的效率，并且导电丝接触面积小，控制方法简单，提高了静电释放的效率以及降低了静电释放难度和成本。
主权项：1.一种减少片盒金属颗粒残留的清洗设备，包括用于承载片盒（300）的承载平台（100），所述承载平台（100）上端安装有清洗装置，其特征在于：所述承载平台（100）表面设置有若干个承载开口，多个所述片盒（300）位于对应的承载开口内阵列布置，同一纵列多个所述片盒（300）的外边缘极限端点位于同一虚拟的接触线上；还包括导电装置（500），所述导电装置（500）包括活动设置的导电丝，所述导电丝与接触线平行，所述导电丝具有靠近片盒（300）的第一位置和远离片盒（300）的第二位置，片盒（300）清洗结束后，控制导电丝朝着接触线移动完成对片盒（300）静电的释放。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 安徽富乐德长江半导体材料股份有限公司 一种减少片盒金属颗粒残留的清洗设备及工艺
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