申请/专利权人:ASML荷兰有限公司
申请日:2022-10-14
公开(公告)日:2024-06-21
公开(公告)号:CN118235159A
主分类号:G06T7/60
分类号:G06T7/60;G06T5/50;G06T7/70;G06N3/045;G06N3/044;G06N3/084
优先权:["20211112 US 63/279,060","20220307 US 63/317,453"]
专利状态码:在审-公开
法律状态:2024.06.21#公开
摘要:用于图像分析的系统和方法包括:获取均与受检样品相关联的多个模拟图像和多个非模拟图像,多个模拟图像中的至少一个模拟图像是样品上未被多个非模拟图像中的任一个非模拟图像成像的位置的模拟图像;以及使用多个模拟图像和多个非模拟图像作为输入来训练无监督域自适应技术,以减小多个模拟图像的第一强度梯度与多个非模拟图像的第二强度梯度之间的差异。
主权项:1.一种用于图像分析的计算机实现的方法,所述方法包括:获取均与受检样品相关联的多个模拟图像和多个非模拟图像,所述多个模拟图像中的至少一个模拟图像是所述样品上未被所述多个非模拟图像中的任一个非模拟图像成像的位置的模拟图像;以及使用所述多个模拟图像和所述多个非模拟图像作为输入来训练无监督域自适应技术,以减小所述多个模拟图像的第一强度梯度与所述多个非模拟图像的第二强度梯度之间的差异。
全文数据:
权利要求:
百度查询: ASML荷兰有限公司 用于带电粒子检查装置的图像分析和关键尺寸匹配的方法和系统
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