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申请/专利权人：株式会社ORC制作所
申请日：2020-12-15
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN113448176B
主分类号：G03F7/20
分类号：G03F7/20
优先权：["20200326 JP 2020-055610"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.21#授权;2022.03.25#实质审查的生效;2021.09.28#公开
摘要：本发明提供曝光装置和曝光方法。在曝光装置中，平滑地形成图案倾斜线。在曝光装置10中，矢量数据处理电路40将轮廓BD0的矢量数据变换为向±X方向轮廓线外侧和或在轮廓线内侧方向移位后的轮廓线校正矢量数据BD+，并通过交替使用原始轮廓线矢量数据BD0和轮廓线校正矢量数据BD+来执行多重曝光动作。
主权项：1.一种曝光装置，其特征在于，所述曝光装置具有：使多个光调制元件呈二维排列而成的光调制元件阵列；栅格数据变换处理部，其将作为图案数据的矢量数据变换为栅格数据；以及矢量数据校正处理部，其将表示图案轮廓线的矢量数据变换为使图案轮廓线沿着一个方向移位后的轮廓线校正矢量数据，根据轮廓线矢量数据和轮廓线校正矢量数据进行多重曝光。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社ORC制作所 曝光装置和曝光方法
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皖公网安备 34010402703815号