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【发明授权】基于太赫兹的纵向温度场的测量方法及装置_天目山实验室_202311335482.1 

申请/专利权人:天目山实验室

申请日:2023-10-16

公开(公告)日:2024-06-21

公开(公告)号:CN117346895B

主分类号:G01J5/00

分类号:G01J5/00;G01J5/48

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.21#授权;2024.01.23#实质审查的生效;2024.01.05#公开

摘要:本申请涉及一种基于太赫兹的纵向温度场的测量方法、装置、计算机设备、存储介质和计算机程序产品。所述方法包括:采用反射式脉冲太赫兹层析成像算法,每隔预设的深度间隔,采集目标测量对象的纵截面的太赫兹时域谱;基于所述目标测量对象的纵截面的太赫兹时域谱,计算所述目标测量对象的纵截面的光学参数谱;所述光学参数谱包括所述目标测量对象的纵截面图像上各像素点的光学参数;基于所述目标测量对象的纵截面的光学参数谱和预先构建的所述目标测量对象对应的温度影响模型,确定所述目标测量对象的纵向温度场;所述温度影响模型用于表示所述目标测量对象的光学参数与温度的关系。采用本方法能够提高纵向温度场测量的准确性。

主权项:1.一种基于太赫兹的纵向温度场的测量方法,其特征在于,所述方法包括:采用反射式脉冲太赫兹层析成像算法,每隔预设的深度间隔,采集目标测量对象的纵截面的太赫兹时域谱;基于所述目标测量对象的纵截面的太赫兹时域谱,计算所述目标测量对象的纵截面的光学参数谱;所述光学参数谱包括所述目标测量对象的纵截面图像上各像素点的光学参数;基于所述目标测量对象的纵截面的光学参数谱和预先构建的所述目标测量对象对应的温度影响模型,确定所述目标测量对象的纵向温度场;所述温度影响模型用于表示所述目标测量对象的光学参数与温度的关系;其中,所述光学参数谱包括折射率谱和其他光学参数谱,所述基于所述目标测量对象的纵截面的太赫兹时域谱,计算所述目标测量对象的纵截面的光学参数谱,包括:对所述目标测量对象的纵截面的太赫兹时域谱进行傅里叶变换,计算所述目标测量对象的纵截面的太赫兹频谱;基于所述目标测量对象的纵截面的太赫兹频谱和菲涅尔公式,计算所述目标测量对象的纵截面的折射率谱;基于所述目标测量对象的纵截面的折射率谱和光学参数关系公式,计算所述目标测量对象的纵截面的其他光学参数谱;其中,所述温度影响模型的构建过程包括:当满足预设的升温条件时,向所述目标测量对象的目标样品的温控系统发送升温指令;所述升温指令用于指示所述温控系统将所述目标样品的环境温度升高预设的温度间隔;所述目标样品是所述目标测量对象的样品,与所述目标测量对象结构相同;当保持所述目标样品的新的环境温度的时间达到预设的温度保持时间时,采用红外成像算法,测量在所述新的环境温度下所述目标样品的表面温度,并采用热电偶算法,每隔预设的深度间隔,测量在所述新的环境温度下所述目标样品的内部纵向温度;采用反射式脉冲太赫兹层析成像算法,每隔所述深度间隔,采集在所述新的环境温度下所述目标样品的纵截面的太赫兹时域谱;基于在所述新的环境温度下所述目标样品的纵截面的太赫兹时域谱,计算在所述新的环境温度下所述目标样品的纵截面的光学参数谱;当满足预设的停止采集条件时,停止向温控系统发送升温指令,并基于在各所述新的环境温度下所述目标样品的纵截面的光学参数谱、所述目标样品的表面温度和所述目标样品的内部纵向温度,构建所述目标测量对象对应的温度影响模型。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 天目山实验室 基于太赫兹的纵向温度场的测量方法及装置

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