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申请/专利权人：博纳半导体设备(浙江)有限公司
申请日：2023-10-25
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN221192312U
主分类号：C23C16/44
分类号：C23C16/44
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.21#授权
摘要：本实用新型公开了一种用于LPCVD设备真空管道的冷却装置，包括真空管道本体，真空管道本体外围设有半导体冷却组件，半导体冷却组件一侧设有风冷却组件，风冷却组件外围设有自然通风组件；本实用新型对现有技术做出了改进，在实际使用中，在工作状态下，通过半导体冷却组件，解决了现有的LPCVD设备真空管道中将积聚大量的尾气热量，高温热量会对后续工作影响的问题。而且也解决了大部分LPCVD设备真空管道只通过常温冷却的办法降低反应室温度，不能充分降低LPCVD设备真空管道温度的问题。
主权项：1.一种用于LPCVD设备真空管道的冷却装置，其特征在于，包括真空管道本体1，所述真空管道本体1外围设有半导体冷却组件2，所述半导体冷却组件2一侧设有风冷却组件3，所述风冷却组件3外围设有自然通风组件4；所述半导体冷却组件2包括冷却安装壳体201，所述冷却安装壳体201套设在真空管道本体1外围，所述冷却安装壳体201上方连接有进液管202，所述进液管202一端连接有进液泵203，所述进液泵203输入端连接有抽液管204，所述抽液管204一端连接有半导体换热箱205内部镶嵌有半导体制冷片206，所述半导体换热箱205顶部连接有排液管207，所述排液管207一端与所述冷却安装壳体201底部相连接。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 博纳半导体设备(浙江)有限公司 一种用于LPCVD设备真空管道的冷却装置
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