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申请/专利权人：杭州沃镭智能科技股份有限公司
申请日：2024-05-24
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN118243977A
主分类号：G01R1/20
分类号：G01R1/20;G01R19/00;G01R31/26
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.25#公开
摘要：本发明公开了一种低杂感开关及电流采样结构，其含有电流传感器，和经该电流传感器相连接的第一壳体和第二壳体；第一壳体上具有内凹结构并设有第一表带触指；第二壳体上具有内凹结构并设有第二表带触指。基于表带触指和分流器的开关结构，既可以保证稳定的接触性能和足够的开关寿命，亦可以对电流进行采样，可以大幅度降低寄生电感。因而本发明有结构紧凑、寄生参数小、能进行电流采样、稳定性好、寿命长、有利于节本增效的优点。
主权项：1.一种低杂感开关，其特征是：含有电流传感器（3），和经该电流传感器（3）相连接的第一壳体（1）和第二壳体（2）；所述的第一壳体（1）上具有内凹结构并设有第一表带触指（13）；所述的第二壳体（2）上具有内凹结构并设有第二表带触指（23）。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 杭州沃镭智能科技股份有限公司 一种低杂感开关及电流采样结构
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