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申请/专利权人：株式会社LG化学
申请日：2023-10-17
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN118251432A
主分类号：C08F290/06
分类号：C08F290/06;C08F220/10;C08F2/44;C08F2/50;G11B7/24067
优先权：["20221018 KR 10-2022-0134345","20231016 KR 10-2023-0138056"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.25#公开
摘要：本发明涉及全息记录介质和包括所述全息记录介质的光学元件，其中在光照射之前光聚合物层与粘合剂保护层之间的粘合力为500gf20nm至5,000gf20nm，以及光聚合物层的雾度值为3％或更小。
主权项：1.一种全息记录介质，包括基底；粘合剂保护层；和光聚合物层，其中在光照射之前所述光聚合物层与所述粘合剂保护层之间的粘合力为500gf20nm至5,000gf20nm，以及其中所述光聚合物层的根据JISK7136:2000测量的雾度值为3％或更小。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社LG化学 全息记录介质、用于形成光聚合物层的组合物和光学元件
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皖公网安备 34010402703815号