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一种同批次商用VDMOS器件的总剂量辐射效应预估方法 

申请/专利权人:中国科学院新疆理化技术研究所

申请日:2024-03-12

公开(公告)日:2024-06-25

公开(公告)号:CN118244076A

主分类号:G01R31/26

分类号:G01R31/26

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.25#公开

摘要:本发明提供一种同批次商用VDMOS器件的总剂量辐射效应预估方法,主要解决现有的预估方法可能高估器件的抗辐射能力,而导致同批次内器件存在应用风险的技术问题。该方法包括以下步骤:准备样品;辐照前参数测试;挑选试验样品;总剂量辐照试验;辐照后参数测试;获取同批次器件辐照后的最大跨导值,进而预估同批次器件的总剂量辐射损伤程度。该方法的优势在于仅开展少量试验,即可预估总剂量辐照后同一批次大量器件的参数变化。

主权项:1.一种同批次商用VDMOS器件的总剂量辐射效应预估方法,其特征在于,包括下列步骤:【1】预先准备同一批次的多个商用VDMOS器件,并从每个器件的栅端引出一个电极,用于赋予栅电压,从漏端引出一个电极,用于赋予漏电压;【2】通过半导体参数测试设备,在预设栅电压、漏电压下对步骤【1】中每个器件进行辐照前的参数测试,分别得到每个器件辐照前的转移特性曲线,进而获取每个器件辐照前的最大跨导值;【3】将步骤【2】得到的最大跨导值进行比较,选择最大跨导值最大的器件作为试验样品,选择最大跨导值最小的器件作为预估样品;【4】对步骤【3】选择的试验样品在预设辐照总剂量下进行总剂量辐照试验;【5】通过半导体参数测试设备,在预设栅电压、漏电压下对经总剂量辐照试验的试验样品进行参数测试,得到试验样品辐照后的转移特性曲线,进而获取该试验样品辐照后的最大跨导值;【6】计算得到试验样品在辐照前、辐照后的最大跨导值变化量,并用预估样品的最大跨导值减去试验样品的最大跨导值变化量,即可得到预估样品在辐照后的最大跨导值,获得预估的该批次VDMOS器件在辐照后的最大跨导值,实现对同批次商用VDMOS器件抗辐射能力的预估。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院新疆理化技术研究所 一种同批次商用VDMOS器件的总剂量辐射效应预估方法

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