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一种超快纳米电子器件及逻辑电路 

申请/专利权人:中国工程物理研究院电子工程研究所

申请日:2024-04-09

公开(公告)日:2024-06-25

公开(公告)号:CN118248505A

主分类号:H01J29/02

分类号:H01J29/02;H01J31/04;H01J31/06;B82Y10/00

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.25#公开

摘要:本发明公开了一种超快纳米电子器件及逻辑电路,应用于半导体器件技术领域,包括:CMOS集成兼容的半导体基底;位于半导体基底一侧表面的绝缘介质层;位于绝缘介质层背向半导体基底一侧表面的导电功能层;导电功能层包括导电电极对,导电电极对包括至少两块导电电极,至少一个导电电极朝向另一导电电极一侧设置有尖端,尖端与另一导电电极之间形成有纳米空气沟道,纳米空气沟道的长度小于电子在空气中的平均自由程。通过剔除传统氧化硅绝缘介质功能层,大幅降低电离总剂量效应影响;通过利用导电材料代替半导体材料作为器件功能层,避免中子辐照效应导致的器件性能的衰变;通过采用导电结构避免了瞬时高能伽玛辐射产生光电流。

主权项:1.一种超快纳米电子器件,其特征在于,包括:CMOS集成兼容的半导体基底;位于所述半导体基底一侧表面的绝缘介质层;位于所述绝缘介质层背向所述半导体基底一侧表面的导电功能层;所述导电功能层包括导电电极对,所述导电电极对包括至少两块导电电极,至少一个导电电极朝向另一导电电极一侧设置有尖端,所述尖端与另一所述导电电极之间形成有纳米空气沟道,所述纳米空气沟道的长度小于电子在空气中的平均自由程。

全文数据:

权利要求:

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