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申请/专利权人：苏州新维度微纳科技有限公司
申请日：2024-05-09
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN118259539A
主分类号：G03F7/00
分类号：G03F7/00
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.28#公开
摘要：本发明公开了一种纳米压印模板、其制备方法及纳米压印方法。纳米压印模板包括模板本体和光响应材料层。模板本体表面形成有纳米压印图案；光响应材料层至少形成于模板本体设置有纳米压印图案的表面上，其中，光响应材料层覆盖模板本体的表面以及纳米压印图案的表面。光响应材料层包括单分子层或多分子层，能在不同的光照条件下发生构型的可逆转变，从而调控模板本体表面的浸润性。本发明将光响应浸润性调控应用在纳米压印中，通过在模板本体表面引入光响应材料，实现模板本体浸润性的动态调控，从而提高纳米压印的精度和效率。
主权项：1.一种纳米压印模板，其特征在于，包括：模板本体，所述模板本体表面形成有纳米压印图案；光响应材料层，至少形成于所述模板本体设置有纳米压印图案的表面上，其中，所述光响应材料层覆盖所述模板本体的表面以及所述纳米压印图案的表面；所述光响应材料层包括单分子层或多分子层，所述光响应材料层能在不同的光照条件下发生构型的可逆转变，从而调控模板本体表面的浸润性。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 苏州新维度微纳科技有限公司 纳米压印模板、其制备方法及纳米压印方法
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