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申请/专利权人：株式会社东进世美肯
申请日：2023-12-22
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN118244593A
主分类号：G03F7/42
分类号：G03F7/42
优先权：["20221223 KR 10-2022-0183334"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.25#公开
摘要：本发明涉及一种光刻胶剥离用组合物，具体提供一种组合物，该组合物采用2种不同胺，可以保持优异的光刻胶剥离力的同时，还可以确保切片蚀刻sliceetch性能，将下部膜的损伤降低至最少。
主权项：1.一种光刻胶剥离用组合物，其特征在于，含有：水20至30重量％；有机溶剂20至60重量％；第一胺2至5重量％；第二胺6至12重量；以及余量的乙二醇系化合物，所述第一胺分子内包含一级胺基；所述第二胺分子内包含二级胺基；布线膜的切片蚀刻速度为以上。
全文数据：
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