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申请/专利权人：长光驰宇科技(长春)有限公司
申请日：2024-01-31
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN118243227A
主分类号：G01J3/28
分类号：G01J3/28
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.25#公开
摘要：本发明公开一种光谱成像系统、标定方法及反射光谱测量方法，系统包括光源装置、匀光装置、成像装置及基准反射板、监测反射板，光源装置发出光并使光入射至匀光装置，匀光装置使入射的光形成至少在一维方向上能量均匀分布的出射光，照射至指定区域，成像装置用于获取来自指定区域的光并进行成像，监测反射板、基准反射板放置于指定区域时成像装置可对其同时成像，监测反射板、待测目标放置于指定区域时成像装置可对其同时成像。本发明光谱成像系统可测量待测目标的反射光谱，可降低照射至待测目标的光非均匀性、成像装置的辐射响应非均匀性及光源装置的发光特性、成像装置的辐射响应特性变化对测量准确性的影响。
主权项：1.一种光谱成像系统，其特征在于，包括：光源装置，用于发出光并使光入射至匀光装置；所述匀光装置，用于使入射至所述匀光装置的光形成至少在一维方向上能量均匀分布的出射光，使所述出射光照射至指定区域；监测反射板，设置于所述指定区域；基准反射板，用于放置于所述指定区域；成像装置，用于获取来自所述指定区域的光并根据获取的光进行成像，使得所述基准反射板放置于所述指定区域时，所述成像装置对所述基准反射板及所述监测反射板同时成像，待测目标放置于所述指定区域时，所述成像装置对所述待测目标及所述监测反射板同时成像。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 长光驰宇科技(长春)有限公司 光谱成像系统、标定方法及反射光谱测量方法
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