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一种化学机械抛光液 

申请/专利权人:安集微电子科技(上海)股份有限公司

申请日:2022-12-22

公开(公告)日:2024-06-25

公开(公告)号:CN118240484A

主分类号:C09G1/02

分类号:C09G1/02;C23F3/06;C23F11/04

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.25#公开

摘要:本发明提供了一种化学机械抛光液,包括水,研磨颗粒,钨抛光促进剂、稳定剂、过氧化物、第一腐蚀抑制剂、第二腐蚀抑制剂。本发明中的化学机械抛光液,协同使用两种腐蚀抑制剂,同时配合特定含量范围的其他添加剂,可以显著减少钨静态腐蚀速率,同时保证较高的钨的抛光速率,更加符合实际生产需求。

主权项:1.一种化学机械抛光液,其特征在于,包括水,研磨颗粒,钨抛光促进剂、稳定剂、过氧化物、第一腐蚀抑制剂、第二腐蚀抑制剂。

全文数据:

权利要求:

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