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申请/专利权人：北京化工大学
申请日：2024-03-11
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN118236487A
主分类号：A61K41/00
分类号：A61K41/00;A61K47/69;A61K47/46;A61K9/00;A61P17/02
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.25#公开
摘要：本发明公开了一种黄瓜源修饰的纳米材料的制备方法，步骤为：制备具有10nm以下尺寸的铜基金属有机框架纳米点Cu‑MOF；制备黄瓜源的细胞外囊泡EVs；Cu‑MOF与EVs按照5:1的质量比共混，在低功率密度下超声，超声后在37℃～40℃共孵育1～2小时，得到黄瓜源修饰的纳米材料NDs@EV。NDs@EV具有克服致密角质层屏障的能力，从而显著提高其透皮递送效率，在近红外激光照射下NDs@EV可有效产生丰富的活性氧，诱导过度增殖的成纤维细胞凋亡，NDs@EV在改善兔耳增生性瘢痕模型的外观，促进胶原纤维的凋亡和重塑方面显示出显著的治疗效果。
主权项：1.一种黄瓜源修饰的纳米材料的制备方法，其特征在于，制备步骤为：1制备具有10nm以下尺寸的铜基金属有机框架纳米点Cu-MOF；2制备黄瓜源的细胞外囊泡EVs；3将步骤1得到的Cu-MOF与步骤2得到的EVs，按照5:1的质量比共混，在低功率密度下超声，超声后在37℃～40℃共孵育1～2小时，得到黄瓜源修饰的纳米材料NDs@EV。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京化工大学 一种黄瓜源修饰的纳米材料及其制备方法和应用
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