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申请/专利权人：杭州泽达半导体有限公司
摘要：本发明公开了一种半导体刻蚀图形的形成系统及方法，涉及到刻蚀图形形成系统技术领域，其半导体刻蚀图形的形成系统包括工作台，所述工作台的顶部固定安装有支架，支架的底部固定安装有等间距排列的多个喷头，工作台的顶部固定安装有安装板，安装板的前侧滑动连接有等间距排列的多个贴合杆，外壳的底部固定安装有外壳，外壳的内侧设有滤网，滤网的右侧固定安装有安装架，本发明通过将半导体元器件放置在两个贴合杆之间，再调节两个贴合杆之间的间距，就可对元器件进行固定，方便对元器件喷涂蚀刻液，并且洒落的蚀刻液还会掉落到外壳的内侧被收集，同时被滤网过滤，避免杂质与蚀刻液混合，方便回收利用蚀刻液。
主权项：1.一种半导体刻蚀图形的形成系统，包括工作台1，其特征在于，所述工作台1的顶部固定安装有支架2，支架2的底部固定安装有等间距排列的多个喷头3，工作台1的顶部固定安装有安装板4，安装板4的前侧滑动连接有等间距排列的多个贴合杆5，外壳15的底部固定安装有外壳15，外壳15的内侧设有滤网16，滤网16的右侧固定安装有安装架17，安装架17与外壳15滑动接触，外壳15的右侧固定安装有对接板22，安装架17的右侧固定安装有把手18；贴合杆5的顶部分别设有定位机构和控制机构，定位机构分别与控制机构和安装板4相配合，安装架17的右侧设有固定机构，固定机构分别与把手18和对接板22相配合。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 杭州泽达半导体有限公司 一种半导体刻蚀图形的形成系统及方法
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