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申请/专利权人：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
申请日：2023-12-21
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN118238064A
主分类号：B24B37/26
分类号：B24B37/26;B24B37/24
优先权：["20221222 US 18/145584","20230214 US 18/168621"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.25#公开
摘要：公开了一种适合用于化学机械抛光的抛光垫，其包括：抛光层，该抛光层具有带有凹槽图案的顶表面，该凹槽图案包括具有第一凹槽截面的多个第一凹槽，该多个第一凹槽限定了相邻第一凹槽之间的多个区域；以及具有第二凹槽截面的多个第二凹槽，该多个第二凹槽在该相邻第一凹槽之间的多个区域的一部分中，其中该第二凹槽截面小于该第一凹槽截面的50％，其中该抛光层的特征进一步在于具有至少1.05克立方厘米的比重。
主权项：1.一种适合用于化学机械抛光的抛光垫，其包括：抛光层，所述抛光层包括具有软相和硬相的聚脲，所述软相是脂肪族无氟物质和氟化脂肪族物质的共聚物，并且硬相由含二异氰酸酯的链段和胺固化剂形成，其中所述抛光层具有带有凹槽图案的顶表面，所述凹槽图案包括具有第一凹槽截面的多个第一凹槽，所述多个第一凹槽限定了相邻第一凹槽之间的多个区域；以及具有第二凹槽截面的多个第二凹槽，所述多个第二凹槽在所述相邻第一凹槽之间的多个区域的一部分中，其中所述第二凹槽截面小于所述第一凹槽截面的50％，其中所述抛光层的特征进一步在于具有至少1.05克立方厘米的比重。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 含有氟化聚合物和多模态凹槽图案的化学机械抛光垫
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