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分析装置以及分析方法 

申请/专利权人:株式会社堀场制作所

申请日:2022-12-01

公开(公告)日:2024-06-25

公开(公告)号:CN118251589A

主分类号:G01N21/3504

分类号:G01N21/3504;G01N21/01

优先权:["20211210 JP 2021-200845"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.25#公开

摘要:本发明提供分析装置以及分析方法。分析装置向导入有样品的测定池照射光,检测通过了该测定池的光,分析所述样品中包含的测定对象成分,分析装置具备:两种以上的激光光源,从作为量子级联激光器的第一激光光源、作为带间级联激光器的第二激光光源、以及作为量子级联激光器和带间级联激光器以外的半导体激光器的第三激光光源中选择;光检测器,检测从各所述激光光源射出并通过了所述测定池的光;以及光源控制部,使各所述激光光源在相互不同的定时进行脉冲振荡。

主权项:1.一种分析装置,向导入有样品的测定池照射光,检测通过了该测定池的光,分析所述样品中包含的测定对象成分,其特征在于,具备:两种以上的激光光源,从作为量子级联激光器的第一激光光源、作为带间级联激光器的第二激光光源以及作为量子级联激光器和带间级联激光器以外的半导体激光器的第三激光光源中选择;光检测器,检测从各所述激光光源射出并通过了所述测定池的光;以及光源控制部,使各所述激光光源在相互不同的定时进行脉冲振荡。

全文数据:

权利要求:

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